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  • 50mm金屬階梯環(huán) CO2脫氣塔 臭氧接觸反應(yīng)塔

    金屬階梯環(huán)最大限度保證其環(huán)面垂直而非平行,這種設(shè)計(jì)運(yùn)用在傳質(zhì)中優(yōu)勢更為突出。因?yàn)榉磻?yīng)效率取決于接觸面的大小。平行面的設(shè)計(jì)會(huì)使環(huán)內(nèi)側(cè)面接觸不到液體,從而形成干面。干面在傳質(zhì)中幾乎不起作用,但是金屬階梯環(huán)的垂直設(shè)計(jì)大大降低干面的可能性,從而有效的提高效率。

    更新時(shí)間:2023-07-18
    型號:
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
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  • 25mm金屬階梯環(huán)填料 化工填料 優(yōu)質(zhì)塔填料

    金屬階梯環(huán)的優(yōu)點(diǎn) ● 減少壓力降:金屬階梯環(huán)在氣液流的路徑上空隙大,通量大,可以有效的減少氣壓降。 ● 增大反應(yīng)塔容量:反應(yīng)塔容量的增大是壓力降減少的直接原因。興豐金屬階梯環(huán)使反應(yīng)觸點(diǎn)遠(yuǎn)離伴有溢流現(xiàn)象的壓力降觸點(diǎn),這意味著能處理更多的氣液,反應(yīng)塔容量加大。

    更新時(shí)間:2023-07-18
    型號:
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
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  • 金屬階梯環(huán)填料 CMR填料 1.5P 雙翻邊

    階梯環(huán)填料較鮑爾環(huán)填料的通量可提高10-20%,壓降低30-40%,分離效率視具體工藝均有不同程度的提高。到目前為止,已有1000個(gè)以上的階梯環(huán)填料塔在吸收、汽蒸和蒸餾等操作中應(yīng)用。根據(jù)具體情況,階梯環(huán)可以代拉西環(huán),鮑爾環(huán),泡罩板,浮閥板和篩板,達(dá)到高效,高產(chǎn)以及節(jié)能的目的。

    更新時(shí)間:2023-07-18
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    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
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  • 不銹鋼金屬階梯環(huán)填料25mm 用于真空精餾塔

    階梯環(huán)填料較鮑爾環(huán)填料的通量可提高10-20%,壓降低30-40%,分離效率視具體工藝均有不同程度的提高。到目前為止,已有1000個(gè)以上的階梯環(huán)填料塔在吸收、汽蒸和蒸餾等操作中應(yīng)用。根據(jù)具體情況,階梯環(huán)可以代拉西環(huán),鮑爾環(huán),泡罩板,浮閥板和篩板,達(dá)到高效,高產(chǎn)以及節(jié)能的目的。

    更新時(shí)間:2023-07-18
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    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
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  • 雙翻邊304階梯環(huán)填料 CMR填料 4P

    階梯環(huán)是由英國傳質(zhì)公司開發(fā)的一種新型開孔型填料。它的高約為直徑的一半,一邊有錐形翻邊,環(huán)壁上開有窗孔,并有彎曲葉片伸向環(huán)心。由于高度減小及錐形翻邊的特殊結(jié)構(gòu),不但改善了填料層內(nèi)氣液分布,而且增加了氣液接觸點(diǎn),有利于液體匯聚分散及膜表面的不斷更新,使傳質(zhì)得到強(qiáng)化,分離效率大大提高。

    更新時(shí)間:2023-07-18
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    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
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  • 25,38,50,76mm 不銹鋼階梯環(huán)

    階梯環(huán)是由英國傳質(zhì)公司開發(fā)的一種新型開孔型填料。它的高約為直徑的一半,一邊有錐形翻邊,環(huán)壁上開有窗孔,并有彎曲葉片伸向環(huán)心。由于高度減小及錐形翻邊的特殊結(jié)構(gòu),不但改善了填料層內(nèi)氣液分布,而且增加了氣液接觸點(diǎn),有利于液體匯聚分散及膜表面的不斷更新,使傳質(zhì)得到強(qiáng)化,分離效率大大提高。

    更新時(shí)間:2023-07-18
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    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
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  • CMR填料 金屬階梯環(huán) 出口標(biāo)準(zhǔn)CMR填料

    階梯環(huán)是由英國傳質(zhì)公司開發(fā)的一種新型開孔型填料。它的高約為直徑的一半,一邊有錐形翻邊,環(huán)壁上開有窗孔,并有彎曲葉片伸向環(huán)心。由于高度減小及錐形翻邊的特殊結(jié)構(gòu),不但改善了填料層內(nèi)氣液分布,而且增加了氣液接觸點(diǎn),有利于液體匯聚分散及膜表面的不斷更新,使傳質(zhì)得到強(qiáng)化,分離效率大大提高。

    更新時(shí)間:2023-07-18
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